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2026.07.01
技術專欄
永續盾牌：EcoShield Wet-Scrubber，打造高科技製程的智慧防護方案
半導體製程中常見的 AMC 與 VOCs，可能來自清洗、蝕刻、化學供應、濕式製程、廢水系統與其他製程排放。若未有效處理，除了可能影響廠區空氣品質，也可能對製程設備、產品穩定性與環安管理造成壓力。
EcoShield Wet-Scrubber 針對多類型污染物設計高效削減機制，可有效處理酸性氣體、鹼性氣體、有機氣體及粒狀物。其中，酸性氣體可涵蓋 HF、HNO₃、HCl、H₂SO₄ 等；鹼性氣體則包含 NH₃；有機氣體則可處理 IPA、PGMEA、PGME 等常見半導體製程有機物。透過濕式洗滌與智慧控制整合，本系統可達成 VOC 去除率大於 90%、MA/MB 去除率大於 95% 的效益，協助客戶降低製程污染風險並提升廠區環境品質。
