產品與服務
濕式製程AMC去除設備(WACU)
1. 高效水洗去除製程高濃度酸、鹼及有機物
2. 濕式製程最佳AMC去除方案
3. 可控制ppb ~ ppm level濃度
曝光機鏡組霧化防護機組(TAU-WS)
1. 防止曝光機鏡面霧化,延長使用年限
2. 延長曝光機lamp使用時間
3. 提升製程良率
4. 防止化學汙染物腐蝕機台內部元件
5. 延長製程設備的化學濾網壽命

1. 高效水洗去除製程高濃度酸、鹼及有機物
2. 濕式製程最佳AMC去除方案
3. 可控制ppb ~ ppm level濃度
1. 防止曝光機鏡面霧化,延長使用年限
2. 延長曝光機lamp使用時間
3. 提升製程良率
4. 防止化學汙染物腐蝕機台內部元件
5. 延長製程設備的化學濾網壽命
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