技術分享|無塵室外氣量怎麼算?正壓量理論計算與半導體廠經驗公式解析
技術分享|無塵室外氣量怎麼算?
正壓量理論計算與半導體廠經驗公式解析
在潔淨室與廠房規劃中,如何維持穩定的正壓、防範外界微粒侵入,是確保製程良率的核心關鍵。而精準的「外氣量與正壓控制」,更是空調系統設計的重要基石。
為了協助規劃團隊快速掌握核心技術指標,我們特別將複雜的理論公式、半導體廠排氣經驗值與實務計算範例,濃縮為一張精華圖解。一圖在手,讓您在規劃初期就能輕鬆建立精準的初步工程藍圖!
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半導體製程中常見的 AMC 與 VOCs,可能來自清洗、蝕刻、化學供應、濕式製程、廢水系統與其他製程排放。若未有效處理,除了可能影響廠區空氣品質,也可能對製程設備、產品穩定性與環安管理造成壓力。
EcoShield Wet-Scrubber 針對多類型污染物設計高效削減機制,可有效處理酸性氣體、鹼性氣體、有機氣體及粒狀物。其中,酸性氣體可涵蓋 HF、HNO₃、HCl、H₂SO₄ 等;鹼性氣體則包含 NH₃;有機氣體則可處理 IPA、PGMEA、PGME 等常見半導體製程有機物。透過濕式洗滌與智慧控制整合,本系統可達成 VOC 去除率大於 90%、MA/MB 去除率大於 95% 的效益,協助客戶降低製程污染風險並提升廠區環境品質。
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