製程環境設備
化學汙染物設備
濕式製程AMC去除設備(WACU)
1. 高效水洗去除製程高濃度酸、鹼及有機物
2. 濕式製程最佳AMC去除方案
3. 可控制ppb ~ ppm level濃度
2. 濕式製程最佳AMC去除方案
3. 可控制ppb ~ ppm level濃度
PRODUCT ADVANTAGES
產品優勢
01
Advantages
節能率
Energy Saving
10-20
10-20
%
02
Advantages
營運成本減少
Running Cost
32
32
%
APPLICATIONS
製程應用
| 項目 | 詳細說明 |
|---|---|
| 塗佈 Coating |
|
| 去光阻Stripper |
|
| 濕式清洗Wet Bench |
|
| 氣狀分子汙染物去除 |
|
CATEGORY
產品種類
PRODUCT APPLICATIONS
產品應用
搭接設備
Single Wafer Cleaner
客戶與實績
01
半導體前段製造 / IDM
02
光電面板大廠
