功能/效益 |
提供晶圓廠、封裝測試廠、面板業精密溫濕度控制,確保曝光、顯影、塗佈設備等製程良率。 |
規格 |
• 潔淨度控制:ISO Class 1~ ISO Class 10 |
• 溫度控制精度: ±0.1℃ ~ ±0.01℃ |
• 濕度控制精度:±2%RH ~ ±0.5%RH |
• 機台内建溫濕度曲線資料 |
• 機台警報、遠端監測及自動防護等功能 |
• 風量:10 / 20 / 30 / 70 cmm |
• 環境溫度範園: 22 ± 2°C |
• 環境濕度範園: 50 ± 10 %RH |
• 環境露點範園: 6-15.7°C |
• 環境潔淨度: Better than ISO class 7 |
應用 |
• 產業別: 半導體製造、AOI檢測、薄型平面顯示器(FPD)、精密機械加工、精密測量、學術研究 |
• 供應鏈:晶圓製造、封裝測試、面板製造、彩色濾光片 |
• 製程應用:光阻塗佈、曝光顯影、鏡面/頭研磨、雷射加工、幾何尺寸測量、IC檢測 |
• 客戶與實績:半導體封裝大廠、光電面板大廠 裝機實績 > 700 台 |