| 独自の技術 |
| 独自に開発した水触媒フィルターを採用、VOCの浸水性を更に高めたことで、水にてAMCを除去することから 、低コストを持続し 高除去効率を保ち続けます |
| 特長 |
| ￭ フォトレジストSolventにおける最適な除去プラン。 ￭ 除去効率は使用時間により劣化することはありません。 ￭ ppb ~ ppm level 濃度の制御が可能。 ￭ 除去効率はいずれも90%以上を達成。 ￭ 低コスト、高効率、消耗品は発生しません。 |
| 効果 |
| コーティングCoating |
| 製造プロセスの保護：NH3 SO2 |
| 排気ガス処理：NMP PGMEA PGME |
| フォトレジストStripperへ |
| 排気ガス処理：DMSO NMP |
| エッチング Eching |
| 排気ガス処理：CH3COOH HF |