| 功能/效益 |
| 防止曝光設備鏡面霧以化延長鏡組使用年限 延長曝光設備LAMP使用時間 提升產品良率 防止化學汙染物腐蝕機台內部元件 延長化學濾網壽命 |
| 規格 |
| •潔淨度控制：ISO Class 4 |
| •溫度控制精度：±0.5℃~ ±0.1℃ |
| •濕度控制精度：±5%RH ~ ±2%RH |
| •氣狀分子污染物去除：>90% in Main AMC (NH3, SO2, HCI, HF, PGME, PGMEA, NMP, DMSO, IPA…) |
| •氣狀分子污染物inlet 處理濃度：10 ppb - 10 ppm |
| • 風量：20 / 40 / 80 / 150 /175 cmm |
| •内建溫濕度記錄、警報、遠端監測及自動防護等功能 |
| • 環境溫度範園： 23± 5°C |
| • 環境濕度範園： 50 ± 10 %RH |
| 應用 |
| •產業別：半導體製造、薄型平面顯示器（FPD） |
| •供應鏈：晶圓製造、封測、面板製造、彩色濾光片 |
| •製程應用：光阻塗佈、曝光顯影、防止曝光機鏡面霧化 |
