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曝光機鏡組霧化防護機組(長效型) (Thermal AMC Prevention Unit, TAU)

簡介

功能/效益
防止曝光設備鏡面霧以化延長鏡組使用年限
延長曝光設備LAMP使用時間
提升產品良率
防止化學汙染物腐蝕機台內部元件
規格
•潔淨度控制:ISO Class 4
•溫度控制精度:±0.5℃~ ±0.05℃
•濕度控制精度:±5%RH ~ ±0.5%RH
•氣狀分子污染物去除:>80% in Main AMC
•内建溫濕度記錄、警報、遠端監測及自動防護等功能
應用
•產業別:半導體製造、薄型平面顯示器(FPD)
•供應鏈:晶圓製造、封測、面板製造、彩色濾光片
•製程應用:光阻塗佈、曝光顯影、防止曝光機鏡面霧化
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