功能/效益 |
降低VOCs濃度,避免對人的健康造成急性及慢性的不良影響 |
改善製程環境VOCs濃度,避免VOCs污染、降低基板表面的附著力,避免造成良率不佳。 |
防止化學汙染物腐蝕機台內部元件 |
規格 |
•潔淨度控制:ISO Class 4 |
•溫度控制精度:±0.5℃~ ±0.1℃ |
•濕度控制精度:±5%RH ~ ±2%RH |
•氣狀分子污染物去除:>90% in Main AMC (NH3, SO2, HCI, HF, PGME, PGMEA, NMP, DMSO, IPA, Benzyl Alcohol, NEP, BCS, THC …) |
•氣狀分子污染物inlet 處理濃度:1 ppm - 1000 ppm |
• 風量:150 /175 /350 cmm |
•內建溫濕度記錄、警報、遠端監測及自動防護等功能 |
• 環境溫度範園: 23± 5°C |
• 環境濕度範園: 50 ± 10 %RH |
• 環境潔淨度: Better than ISO class 7 |
應用 |
•產業別:半導體製造、薄型平面顯示器(FPD) |
•供應鏈:晶圓製造、封測、面板製造、彩色濾光片 |
•製程應用:光阻塗佈、曝光顯影、烘烤機、防止曝光機鏡面霧化、改善環境VOCs濃度 |