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提供晶圓廠、封裝測試廠、面板業精密溫濕度控制, 確保曝光、顯影、塗佈等設備製程良率
防止曝光機鏡面霧化、化學汙染物腐蝕機台內部元件
改善製程環境VOCs濃度,避免VOCs污染、降低基板表面的附著力,避免造成良率不佳。
潔淨度控制、氣狀分子汙染物去除
提升製程潔淨度至ISO Class 1,採分離式設計,可避免製程設備受到震動影響