| 功能/效益 |
| 防止曝光设备镜面雾以化延长镜组使用年限 延长曝光设备LAMP使用时间 提升产品良率 防止化学污染物腐蚀机台内部组件 |
| 规格 |
| •洁净度控制：ISO Class 4 |
| •温度控制精度：±0.5℃~ ±0.05℃ |
| •湿度控制精度：±5%RH ~ ±0.5%RH |
| •气状分子污染物去除：>90% in Main AMC |
| •内建温湿度记录、警报、远程监测及自动防护等功能 |
| 应用 |
| •产业别：半导体制造、薄型平面显示器（FPD） |
| •供应链：晶圆制造、封测、面板制造、彩色滤光片 |
| •制程应用：光阻涂布、曝光显影、防止曝光机镜面雾化 |
