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制程高浓度AMC去除机组

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效益
低成本、高效率、无耗材
可控制ppb~ppm level浓度
去除效率可达90%以上，且不随时间改变
规格
风量50 / 100 / 150 cmm
可去除物种去除率>90%
酸SO2 HF HCL NO2 NO3
碱NH3
挥发性有机物PGME PGMEA NMP IPA MEA
应用
• 产业别：半导体产业、光电产业
• 供应链：晶圆代工厂、封装测试厂
• 制程应用：Single Wafer Cleaner 、Coater、Stripper
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