| 功能/效益 |
| 提供晶圓廠、封裝測試廠、面板業精密溫濕度控制，確保曝光、顯影、塗佈設備等製程良率。 |
| 規格 |
| • 潔淨度控制：ISO Class 1~ ISO Class 10 |
| • 溫度控制精度： ±0.1℃ ~ ±0.01℃ |
| • 濕度控制精度：±2%RH ~ ±0.5%RH |
| • 機台内建溫濕度曲線資料 |
| • 機台警報、遠端監測及自動防護等功能 |
| • 風量：10 / 20 / 30 / 70 cmm |
| • 環境溫度範園： 22 ± 2°C |
| • 環境濕度範園： 50 ± 10 %RH |
| • 環境露點範園： 6-15.7°C |
| • 環境潔淨度： Better than ISO class 7 |
| 應用 |
| • 產業別： 半導體製造、AOI檢測、薄型平面顯示器（FPD）、精密機械加工、精密測量、學術研究 |
| • 供應鏈：晶圓製造、封裝測試、面板製造、彩色濾光片 |
| • 製程應用：光阻塗佈、曝光顯影、鏡面/頭研磨、雷射加工、幾何尺寸測量、IC檢測 |
| • 客戶與實績：半導體封裝大廠、光電面板大廠 裝機實績 > 700 台 |
