功能/效益 |
防止曝光設備鏡面霧以化延長鏡組使用年限 延長曝光設備LAMP使用時間 提升產品良率 防止化學汙染物腐蝕機台內部元件 延長化學濾網壽命 |
規格 |
•潔淨度控制:ISO Class 4 |
•溫度控制精度:±0.5℃~ ±0.1℃ |
•濕度控制精度:±5%RH ~ ±2%RH |
•氣狀分子污染物去除:>90% in Main AMC (NH3, SO2, HCI, HF, PGME, PGMEA, NMP, DMSO, IPA…) |
•氣狀分子污染物inlet 處理濃度:10 ppb - 10 ppm |
• 風量:20 / 40 / 80 / 150 /175 cmm |
•内建溫濕度記錄、警報、遠端監測及自動防護等功能 |
• 環境溫度範園: 23± 5°C |
• 環境濕度範園: 50 ± 10 %RH |
應用 |
•產業別:半導體製造、薄型平面顯示器(FPD) |
•供應鏈:晶圓製造、封測、面板製造、彩色濾光片 |
•製程應用:光阻塗佈、曝光顯影、防止曝光機鏡面霧化 |